Quels sont les défauts courants et les solutions de la base de granit dans les équipements semi-conducteurs ?

La base de granit est couramment utilisée dans les équipements semi-conducteurs en raison de ses excellentes propriétés d’amortissement des vibrations, de sa stabilité thermique et de son faible coefficient de dilatation thermique.Cependant, comme tout autre matériau, les granites peuvent développer des défauts pouvant affecter les performances des équipements semi-conducteurs.Dans cet article, nous mettrons en évidence certains des défauts courants de la base de granit dans les équipements semi-conducteurs et proposerons des solutions.

Défaut n°1 : déformations de surface

Les déformations de surface sont les défauts les plus courants dans la base de granit des équipements semi-conducteurs.Lorsque la base de granit est soumise à des changements de température ou à de lourdes charges, elle peut développer des déformations de surface, telles que des déformations, des torsions et des bosses.Ces déformations peuvent interférer avec l’alignement et la précision des équipements semi-conducteurs.

Solution : corrections de surface

Les corrections de surface peuvent aider à atténuer les déformations de surface de la base de granit.Le processus de correction consiste à rectifier la surface de la base en granit pour lui redonner sa planéité et sa douceur.Une attention particulière doit être portée au choix du bon outil de meulage et de l'abrasif utilisé pour garantir le maintien de la précision.

Défaut n°2 : Fissures

Des fissures peuvent se développer dans la base de granit en raison de cycles thermiques, de charges lourdes et d'erreurs d'usinage.Ces fissures peuvent entraîner une instabilité structurelle et affecter considérablement la précision des équipements semi-conducteurs.

Solution : Remplissage et réparation

Le remplissage et la réparation des fissures peuvent aider à restaurer la stabilité et la précision de la base en granit.Le processus de réparation consiste généralement à remplir la fissure avec une résine époxy, qui est ensuite durcie pour restaurer la résistance de la surface du granit.La surface collée est ensuite rectifiée pour restaurer la planéité et la douceur.

Défaut n°3 : Délaminage

La délamination se produit lorsque les couches de la base de granit se séparent les unes des autres, créant des espaces visibles, des poches d'air et des incohérences dans la surface.Cela peut résulter d’une mauvaise liaison, de cycles thermiques et d’erreurs d’usinage.

Solution : collage et réparation

Le processus de collage et de réparation implique l’utilisation de résines époxy ou polymères pour lier les sections de granit délaminé.Après avoir collé les sections de granit, la surface réparée est ensuite rectifiée pour lui redonner planéité et douceur.Le granit lié doit être vérifié pour déceler tous les espaces et poches d'air restants afin de garantir que la base de granit retrouve entièrement sa résistance structurelle d'origine.

Défaut n°4 : Décoloration et taches

Parfois, la base de granit peut développer des problèmes de décoloration et de taches, tels que des taches brunes et jaunes, des efflorescences et des taches sombres.Cela peut être dû à des déversements de produits chimiques et à des pratiques de nettoyage inadéquates.

Solution : Nettoyage et entretien

Un nettoyage régulier et approprié de la base en granit peut prévenir la décoloration et les taches.L'utilisation de nettoyants au pH neutre ou doux est recommandée.Le processus de nettoyage doit suivre les instructions du fabricant pour éviter d'endommager la surface du granit.En cas de taches tenaces, un nettoyant spécialisé pour granit peut être utilisé.

En résumé, la base en granit est un matériau durable et fiable largement utilisé dans les équipements semi-conducteurs.Cependant, des défauts peuvent apparaître au fil du temps en raison de changements de température, de charges lourdes et d’erreurs d’usinage.Avec un entretien, un nettoyage et une réparation appropriés, la base en granit peut être restaurée, garantissant ainsi des performances optimales de l'équipement semi-conducteur.

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Heure de publication : 25 mars 2024